电子工业部办公大楼

  • 建筑类型: 办公建筑
  • 建筑规模:30000㎡
  • 设计内容: ——
  • 项目地点:北京 海淀区
  • 设计周期: 1984 -1985

本建筑为高层办公楼,29层,120米高。